Prime-Wafer-Polierschlämme
Nalco Water beliefert die Waferindustrie seit Jahrzehnten mit kolloidalem Silica. Dank unseres umfassenden und breit gefächerten Fachwissens sind wir in der Lage, einige der hochwertigsten Silizium-Polierpasten der Branche herzustellen.
Unsere hochstabilen kolloidalen Silica-Produkte bieten außergewöhnliche Reinheit, kontrollierte Partikelgröße, Verteilung und Morphologie für optimale Leistung in Ihren wichtigsten Waferpolierprozessen.
Entwicklung von Wafer-Poliermitteln für:
Hohe Abtragsraten
Konstante Leistung
Geringe Fehleranfälligkeit
Gebrauchsfertige kolloidale Silica-Schlämme zum Polieren von Siliziumwafern
- Größe (nm): 60
- pH-Wert: 11
- Stabilisierend: Na+
- Größe (nm): 60
- pH-Wert: 8,5
- Stabilisierend: Na+
- Größe (nm): 85
- pH-Wert: 11-12
- Stabilisierend: NH4
- Hinweise: Chelatbildender Zusatzstoff
- Größe (nm): 85
- pH-Wert: 11-12
- Stabilisierend: NH4
- Hinweise: Hohe Si-Entfernungsrate. Gefährlich.
- Größe (nm): 120
- Fläche m2/gm: 25
- % Feststoffe: 47
- pH-Wert: 9-10
- Stabilisierend: K+
Vielfältige Polier-Anwendungen
Unsere Polierpasten auf Basis von kolloidalem Silica werden häufig für die Roh-, Kanten- und Endpolitur bei der Herstellung von Siliziumwafern und anderen Halbleitersubstraten für Mikrochips verwendet.
Diese Zementschlämme werden bei der Präzionsendbearbeitung optischer Geräte, Uhrkristalle und anderer Komponenten aus Glas genutzt.
Innovationen für die Anforderungen von CMP-Schlamm-Formulierern
Nalco Water hat seine Produktionskapazitäten für kolloidales Silica angepasst, um hochreine, innovative Nanopartikel zu liefern, die den Anforderungen der CMP-Slurry-Hersteller gerecht werden.
- Ultrahochreine Nanopartikel auf Wasserglasbasis
- Breite Vielfalt an Partikelgrößen, Größenverteilungen und Konzentrationen
- Produkte, die entwickelt wurden, um über einen weiten Bereich von pH-Werten stabil zu bleiben
- Starke Zusammenarbeit zwischen den Forschern
Nalco Water ist ein führendes Unternehmen im Bereich kolloidales Silica
- Erster patentierter Herstellungsprozess von kolloidalem Silica in 1941
- Einer der weltweit größten Hersteller von kolloidalem Silica
- Innovative Forschung, Entwicklung und Technik für maßgeschneiderte Produktentwicklung
- Produkte für Effizienz, Qualität und Kontrolle in der Fertigung
- Hoher Mehrwert durch innovatives Partikeldesign und Qualitätsunterstützung
Quellennachweise
- Die Produkte wurden unter Verwendung des LMSII-Verfahrens zur Entfernung von Metallen hergestellt; [Cu] und [Ni] weniger als 20 ppb. Die Verfügbarkeit hängt vom Volumen ab. ↵